緊湊型直流磁控濺射鍍膜儀應用領域：

緊湊型直流磁控濺射鍍膜儀設計主要是制作一些金屬薄膜，制膜面積可達到4英寸。設備外形小巧，性價比高，是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設備，可選配各種金屬靶材和真空泵搭配設備使用。

緊湊型直流磁控濺射鍍膜儀技術(shù)規(guī)格：

產(chǎn)品名稱	桌面型單靶磁控鍍膜儀
產(chǎn)品型號	CY-MSZ180-I-DC-Q
樣品臺	外形尺寸	φ100mm
	加熱溫度	≦500℃
	可調(diào)轉(zhuǎn)速	≦20rpm
磁控靶槍	配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm
真空腔體	腔體尺寸	φ180mm X 215mm
	觀察窗口	全向透明
	腔體材料	高純石英
	開啟方式	上蓋拆卸式
真空系統(tǒng)	前級泵	低噪音雙極旋片泵
	分子泵	低噪音大抽速渦輪分子泵
	真空測量	復合真空計，量程:10-5~105Pa
	抽氣接口	KF16
	抽氣接口	KF40
	排氣接口	KF16
	系統(tǒng)真空	1.0×10-4Pa
	供電電源	AC 220V 50/60Hz
	抽氣速率	分子泵抽速600L/s，前級泵抽速1.1L/s
電源配置	電源數(shù)量	直流電源一套
	輸出功率	≦150W
其他參數(shù)	供電電壓	AC220V,50Hz
	整機功率	2kW
	整機尺寸	550mm X 350mm X400mm

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