- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
1650℃布里奇曼晶體生長(zhǎng)爐主要應(yīng)用于半導(dǎo)體材料領(lǐng)域,用于生長(zhǎng)各種單晶體,包括硅、藍(lán)寶石、氮化硅、碳化硅等.它可以生長(zhǎng)高純度、高質(zhì)量和大尺寸的單晶體,用于生產(chǎn)半導(dǎo)體器件、激光器、光電子器件等。
布里奇曼晶體生長(zhǎng)爐技術(shù)參數(shù):
產(chǎn)品名稱
1650℃布里奇曼單晶生長(zhǎng)爐
產(chǎn)品型號(hào)
CY-CGF1650-Φ80-100×100×100-V-T
電 源
zui大功率:15KW
工作溫度
zui高工作溫度:1650℃(<1小時(shí))
連續(xù)工作溫度:1600℃
加熱元件
硅鉬棒
爐 管
高純氧化鋁爐管,尺寸:Φ80×1070mm
法 蘭
不銹鋼密封法蘭
樣 品 臺(tái)
Φ60×100mm氧化鋁樣品臺(tái)
B型熱偶插入到樣品臺(tái)底部,可實(shí)時(shí)測(cè)量坩堝溫度
坩堝裝載
自動(dòng)樣品臺(tái)升降,便于坩堝放置/取樣
zui大行程700mm
加 熱 區(qū)
三溫區(qū)爐體,形成較大的溫度梯度(每個(gè)溫區(qū)長(zhǎng)度100mm,總溫區(qū)300mm)
控溫系統(tǒng)
采用PID方式控溫,可設(shè)置30段升降溫程序
帶有超溫和斷偶保護(hù)
三個(gè)B型熱電偶
爐體移動(dòng)行程
爐體*大移動(dòng)行程為500mm
爐體移動(dòng)速度
0.03~3mm/小時(shí)
真 空 泵
雙極旋片真空泵 1.1L/S
供電電源
220V 50HZ
水 冷
帶有一臺(tái)10L 的水冷機(jī)
重 量
600kg
尺 寸
900X1000X3200mm