本設備為多源高真空蒸發(fā)鍍膜儀，設備采用前開門式真空腔體設計，腔體空間大，可拓展性強，能夠滿足多樣式大尺寸樣品的蒸發(fā)鍍膜。腔體內配有上置樣品臺，可根據(jù)用戶樣品樣式選取夾持或卡位式樣品安裝部件。樣品臺可旋轉、加熱及升降，所有操作均通過觸控屏集成控制。設備的真空泵組為兩級式真空系統(tǒng)，由雙極旋片真空泵和渦輪分子泵組成，可為真空鍍膜試驗提供清潔無油的高真空的環(huán)境；真空系統(tǒng)內含有完善的氣動閥系統(tǒng)，用戶可通過觸控屏進行一鍵式操作實現(xiàn)抽取真空、不停機取放樣、完全停機等操作。

本設備的蒸發(fā)源共兩組，采取鎢舟蒸發(fā)源，水冷式銅電極，可*大支持300A的大電流，加熱溫度*高可達1800℃，可實現(xiàn)多種難熔金屬的蒸鍍。本設備采用一體化設計，腔體和電控部分左右分置，實現(xiàn)了水電分離，有力的保證了用戶的**。電控部分采用觸控屏和按鈕面板相結合的設計，真空系統(tǒng)、樣品臺等輔助功能通過觸控屏一鍵操作，通電蒸發(fā)、膜厚控制等通過面板獨立操作，在盡可能方便用戶的同時規(guī)避了誤操作的可能。該設備設計完善性能優(yōu)越，是實驗室高精度蒸發(fā)鍍膜試驗的必備之選

技術參數(shù):

多源高真空蒸發(fā)鍍膜儀
樣品臺	尺寸	φ150mm樣品
	高度	上下150mm可調
蒸發(fā)源	數(shù)量	鎢舟x2
真空腔體	腔體尺寸	φ500x700mm
	觀察窗口	前置φ100mm含遮光片
	腔體材料	304不銹鋼
	開啟方式	前開門式
膜厚控制	晶振式膜厚測量儀，可選多通道膜厚控制儀
真空系統(tǒng)	前級泵	雙極旋片泵
	抽氣接口	KF16
	次級泵	渦輪分子泵
	抽氣接口	ISO160
	真空測量	電阻+電離 復合真空規(guī)
	排氣速率	機械泵1.1L/s 分子泵 600L/s
	極限真空	1.0E-5Pa
	供電電源	AC 220V 50/60Hz
	抽氣速率	旋片泵：1.1L/S
流量計	可選一路質量流量計 500sccm Ar氣
控制系統(tǒng)	PLC自動控制  操作界面：觸控屏+操作面板
其他	供電電壓	AC220V,50Hz
	整機尺寸	1200mm X 900mm X 1500mm
	整機重量	500kg
	整機功率	5kW