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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:帶過渡艙型雙靶磁控濺射鍍膜儀

  • 產(chǎn)品型號:CY-MSH325G-II-DCDC-SS
  • 產(chǎn)品廠商:成越科儀
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
本設(shè)備為雙靶磁濺射控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
詳情介紹:

本設(shè)備為雙靶磁控濺射鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。

雙靶磁控濺射鍍膜儀配置結(jié)構(gòu):

設(shè)備配有兩支磁控靶,兩套直流電源,可用于鍍多層導(dǎo)電金屬膜。同時(shí)設(shè)備具有主腔室和過渡艙兩部分,過渡艙配有磁力推桿,兩個(gè)艙室之間裝有真空閘板閥;用戶可以在主腔室進(jìn)行濺射工作的同時(shí),在過渡艙裝填樣品,并進(jìn)行真空預(yù)抽,待主腔室濺射完成后即可將樣品通過磁力推桿推入主腔室的樣品臺。這樣的設(shè)計(jì)能夠減少主腔室抽放真空的次數(shù),不僅能有效節(jié)省時(shí)間,更能保證更好的本地真空,有效提高鍍膜質(zhì)量。
雙靶磁控濺射鍍膜儀

 雙靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):

項(xiàng)目

明細(xì)

產(chǎn)品型號

CY-MSH325G-II-DCDC-SS

供電電壓

AC220V,50Hz

整機(jī)功率

6.5KW

系統(tǒng)真空

5×10-4Pa

樣品臺

外形尺寸

φ150mm

加熱溫度

500℃

控溫精度

±1℃

可調(diào)轉(zhuǎn)速

20rpm

磁控靶槍

靶材尺寸

直徑Φ50.8mm,厚度3mm

冷卻模式

循環(huán)水冷

水流大小

不小于10L/Min

真空腔體

腔體尺寸

直徑φ325mm,高度500mm

腔體材質(zhì)

SUU304不銹鋼

觀察窗口

直徑φ100mm

過渡腔體

150x150x150mm

開啟方式

頂開式

氣體控制

1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量,量程為:200SCCM

真空系統(tǒng)

配分子泵系統(tǒng)1套,氣體抽速600L/S

膜厚測量

可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ?

濺射電源

配直流電源500W*2

控制系統(tǒng)

CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng)

設(shè)備尺寸

1200mm×1200mm×2000mm

設(shè)備重量

450kg



豫公網(wǎng)安備 41019702002438號

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