- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
噴霧熱解制膜法,是將溶液霧化后噴涂到加熱的基座上,然后在基底上得到想要的物質(zhì)結(jié)構(gòu)。本設(shè)備是由我公司自主研發(fā)的一款超聲噴霧熱解設(shè)備,它配有40KHz 130W的超聲波霧化器、PID控溫的加熱襯底基板、高精度蠕動泵以及精密程控的步進(jìn)電機(jī)移動機(jī)構(gòu)。本設(shè)備通過整合設(shè)計能夠準(zhǔn)確控制溶液出液量、霧粒的噴出速度和霧粒大小等參數(shù),同時基底溫度也可以進(jìn)行控制,能夠滿足您的各種試驗需求。
此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物,而且在制備透明電極的應(yīng)用中已有相當(dāng)長的歷史?,F(xiàn)在這種方法在制備鈣鈦礦型太陽能電池中得到廣泛的應(yīng)用。
超聲波熱解噴涂機(jī)技術(shù)參數(shù):
項目
明細(xì)
供電電壓
AC220V,50Hz
Max 功率
3.5KW (含壓縮機(jī)+注射泵)
超聲波霧化器
50KHz 30W
液體粘度
1-50mPa·s(cP)
噴頭行程
X:260, Y:260,Z:100
移動速度
0.1-80mm/s (x軸方向) 0.10-80mm/s(Y軸方向)
加熱襯底基板
150mm × 150mm
Max 溫度
500℃
控溫方式
AI-PID 控溫
滴涂罐容量
注液器:60ML-250ML
注射泵分液速率
0.006-41mL/min
操控方式
工控電腦+儀器面板
整機(jī)尺寸
800mm×550mm× 1100mm
免責(zé)聲明:本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等),僅供參考。可能由于更新不及時,會造成所述內(nèi)容與實際情況存在一定的差異,請與本公司銷售人員聯(lián)系確認(rèn)。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾,本公司會不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息,恕不另行通知,請您見諒