產(chǎn)品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
文章詳情
PECVD系統(tǒng)性能指標(biāo)的說明
日期：2024-09-21 04:38
瀏覽次數(shù)：1251
摘要：
PECVD系統(tǒng)薄膜制備設(shè)備，適合于半導(dǎo)體、集成電路、光電科學(xué)、電子信息、納米技術(shù)等領(lǐng)域研究，可以在各種尺寸和形狀的基底上沉積可以多種薄膜。
PECVD系統(tǒng)性能指標(biāo)：
1、PECVD是前段預(yù)熱雙溫區(qū)滑軌結(jié)構(gòu)，集真空系統(tǒng)、供氣流量系統(tǒng)、射頻源、自動推進(jìn)、加熱于一體，并將所有控制集成于觸屏操控界面之中。
2、PECVD電源范圍：0~500 W可調(diào)，溫度范圍：100~1200 ℃可調(diào)，濺射區(qū)域長度：2000 mm。
3、適用范圍：金屬薄膜，陶瓷薄膜等，復(fù)合薄膜，連續(xù)生長各種薄膜等。
4、雙溫區(qū)滑軌爐：帶有預(yù)熱爐，*高溫度為1100 ℃；
5、等離子射頻發(fā)生器：輸出功率5~500 W可調(diào)；射頻電源頻率13.56 MHz；冷卻方式為空氣冷卻；輸入電源:208~240 VAC，50/60 Hz；
尊敬的客戶：
本公司還有快速退火爐、等離子清洗機(jī)、磁控濺射鍍膜儀等產(chǎn)品，您可以通過網(wǎng)頁撥打本公司的服務(wù)電話了解更多產(chǎn)品的詳細(xì)信息，至善至美的服務(wù)是我們的追求，歡迎新老客戶放心選購自己心儀產(chǎn)品，我們將竭誠為您服務(wù)！
