產(chǎn)品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
文章詳情
真空技術(shù)中幾個重要的概念
日期：2025-05-10 07:15
瀏覽次數(shù)：2163
摘要： 一個大氣壓下，空氣的分子密度n=2.7×1019個/cm3?？諝馐腔旌蠚怏w，其相對分子質(zhì)量由構(gòu)成的氣體分子按比例計算。氮氣的相對分子質(zhì)量28.016，體積比78.1%;氧氣的相對分子質(zhì)量32，體積比20.93%;氬氣的相對分子質(zhì)量39.944，體積比0.933%。相對分子質(zhì)量的平均值=(28.016×78.1+32×20.93+39.944×0.933)/(78.1+20.93+0.933)=28.96
由氣體分子運動論，壓強的計算式為p=nkT 采用國際標準單位時(壓強Pa，體積 m3)，玻爾茲曼常數(shù)k為1.38×10-23 J/K。
氣體分子的密度為n=p/(kT) (1-4) 壓強為1Pa，溫度為27℃時，氣體分子的密度n為...
一個大氣壓下，空氣的分子密度n=2.7×1019個/cm3。空氣是混合氣體，其相對分子質(zhì)量由構(gòu)成的氣體分子按比例計算。氮氣的相對分子質(zhì)量28.016，體積比78.1%;氧氣的相對分子質(zhì)量32，體積比20.93%;氬氣的相對分子質(zhì)量39.944，體積比0.933%。相對分子質(zhì)量的平均值=(28.016×78.1+32×20.93+39.944×0.933)/(78.1+20.93+0.933)=28.96
由氣體分子運動論，壓強的計算式為p=nkT 采用國際標準單位時(壓強Pa，體積 m3)，玻爾茲曼常數(shù)k為1.38×10-23 J/K。
氣體分子的密度為n=p/(kT) (1-4) 壓強為1Pa，溫度為27℃時，氣體分子的密度n為n=1/(1.38×10-23×(273+27))=2.4×1020個/m3 因此，即使真空度達到10-9 Pa的極高真空狀態(tài)，每立方米的空間內(nèi)仍有1011個氣體分子存在。
1、氣體分子的平均自由程
氣體是由大量的分子構(gòu)成的，0℃一個大氣壓的情況下，22.4L的空間里有1摩爾(6.02×1023個)分子。這些分子在室溫下以500～1500m/s的速度運動和其他分子碰撞后，改變運動方向和速度，之后再和另外的分子碰撞。兩次碰撞之間的飛行距離，稱之為平均自由程。平均自由程λ[m]、壓強p[Pa]、溫度T[K]以及分子的直徑D[m]之間的關(guān)系為λ=3.11×10-24 T/pD2(1-5)因此，氣體分子的平均自由程與壓強成反比例、與溫度成正比例、與分子直徑的2次方成反比例關(guān)系。溫度為25℃的空氣，壓強和分子平均自由程的實際數(shù)據(jù)，1Pa為7mm、10-1 Pa為7cm、10-2Pa為70cm、10-3 Pa為7m、10-4 Pa為70m。記住這些數(shù)字，對真空度的感覺能更直觀一些。
2、氣體分子的入射頻率
氣體分子在單位時間和單位面積內(nèi)碰撞固體表面的數(shù)量稱之為入射頻率。入射頻率r和壓強p[Pa]、氣體相對分子質(zhì)量Mr、溫度T[K]之間的關(guān)系表示為 r=2.6×10-24 p/(MrT)1/2[個/(m2·s)] (1-6) 即入射頻率和壓強成正比例、和氣體相對分子質(zhì)量平方根及溫度的平方根成反比例關(guān)系。在真空度為10-4 Pa的情況下，25℃氧分子的入射頻率是2.72×1018 個/(m2·s)。排列于固體表面的原子數(shù)大約是1019 個/m2，只要幾秒鐘的時間，表面所有的原子都會受到氧分子的碰撞。
圖1.3 分子流和黏性流的示意圖
3、真空中的熱傳導
空間中兩個位置如果存在溫度差，則會發(fā)生熱傳導。氣體分子為黏性流的情況，壓強變化后，傳遞熱量的分子密度和分子的平均自由程也發(fā)生變化。由于分子的平均自由程和分子密度對熱傳導的影響起著相反的作用，因此，對黏性流來講，氣體對熱傳導的貢獻和壓強的關(guān)系可忽略不計。
氣體分子為分子流的情況，如果氣體分子的平均自由程比真空兩側(cè)間距還長，獲得熱能的氣體分子將直接穿過真空而運動到另一側(cè)。因此，通過氣體分子傳遞的熱量和氣體的分子密度有關(guān)。氣體的分子密度和壓強成正比例，所以氣體分子傳遞的熱量和壓強成正比例。但是，處于分子流的分子密度非常低，實際的熱傳導也可忽略。
由氣體分子運動論，壓強的計算式為p=nkT 采用國際標準單位時(壓強Pa，體積 m3)，玻爾茲曼常數(shù)k為1.38×10-23 J/K。
氣體分子的密度為n=p/(kT) (1-4) 壓強為1Pa，溫度為27℃時，氣體分子的密度n為n=1/(1.38×10-23×(273+27))=2.4×1020個/m3 因此，即使真空度達到10-9 Pa的極高真空狀態(tài)，每立方米的空間內(nèi)仍有1011個氣體分子存在。
1、氣體分子的平均自由程
氣體是由大量的分子構(gòu)成的，0℃一個大氣壓的情況下，22.4L的空間里有1摩爾(6.02×1023個)分子。這些分子在室溫下以500～1500m/s的速度運動和其他分子碰撞后，改變運動方向和速度，之后再和另外的分子碰撞。兩次碰撞之間的飛行距離，稱之為平均自由程。平均自由程λ[m]、壓強p[Pa]、溫度T[K]以及分子的直徑D[m]之間的關(guān)系為λ=3.11×10-24 T/pD2(1-5)因此，氣體分子的平均自由程與壓強成反比例、與溫度成正比例、與分子直徑的2次方成反比例關(guān)系。溫度為25℃的空氣，壓強和分子平均自由程的實際數(shù)據(jù)，1Pa為7mm、10-1 Pa為7cm、10-2Pa為70cm、10-3 Pa為7m、10-4 Pa為70m。記住這些數(shù)字，對真空度的感覺能更直觀一些。
2、氣體分子的入射頻率
氣體分子在單位時間和單位面積內(nèi)碰撞固體表面的數(shù)量稱之為入射頻率。入射頻率r和壓強p[Pa]、氣體相對分子質(zhì)量Mr、溫度T[K]之間的關(guān)系表示為 r=2.6×10-24 p/(MrT)1/2[個/(m2·s)] (1-6) 即入射頻率和壓強成正比例、和氣體相對分子質(zhì)量平方根及溫度的平方根成反比例關(guān)系。在真空度為10-4 Pa的情況下，25℃氧分子的入射頻率是2.72×1018 個/(m2·s)。排列于固體表面的原子數(shù)大約是1019 個/m2，只要幾秒鐘的時間，表面所有的原子都會受到氧分子的碰撞。
如果氣體分子的平均自由程和容器的尺寸相同或更長，則氣體分子和容器壁碰撞的次數(shù)要比氣體分子之間的碰撞次數(shù)要多，這種狀態(tài)被稱為分子流(圖1.3(a))。如果平均自由程比較短，氣體分子之間的碰撞次數(shù)比氣體分子和容器壁的碰撞次數(shù)多，這種狀態(tài)被稱為黏性流(圖1.3(b))。黏性流的氣體分子在管路中被排出時，中心軸的流速*大，靠近管壁的流速逐漸減小。針對分子流或黏性流，獲得真空時要選擇不同類型的真空泵，這在以后真空泵一節(jié)中將會詳細介紹。
圖1.3 分子流和黏性流的示意圖
3、真空中的熱傳導
空間中兩個位置如果存在溫度差，則會發(fā)生熱傳導。氣體分子為黏性流的情況，壓強變化后，傳遞熱量的分子密度和分子的平均自由程也發(fā)生變化。由于分子的平均自由程和分子密度對熱傳導的影響起著相反的作用，因此，對黏性流來講，氣體對熱傳導的貢獻和壓強的關(guān)系可忽略不計。
氣體分子為分子流的情況，如果氣體分子的平均自由程比真空兩側(cè)間距還長，獲得熱能的氣體分子將直接穿過真空而運動到另一側(cè)。因此，通過氣體分子傳遞的熱量和氣體的分子密度有關(guān)。氣體的分子密度和壓強成正比例，所以氣體分子傳遞的熱量和壓強成正比例。但是，處于分子流的分子密度非常低，實際的熱傳導也可忽略。
對真空環(huán)境來說，分子流狀態(tài)的熱傳導主要是輻射。在真空容器中進行薄膜生長時，為了提高薄膜質(zhì)量，通常要對襯底進行加熱，加熱主要就是利用熱輻射來實現(xiàn)。
文章來源“真空技術(shù)與設(shè)備網(wǎng)”
