迷你石墨烯CVD設備
本套CVD系統(tǒng)專為石墨烯生產(chǎn)設計，采用1200℃迷你管式爐，配有高精度質量流量計以及薄膜真空規(guī)。相比于常規(guī)的皮拉尼電阻規(guī)，薄膜規(guī)的讀數(shù)**，不受氣體種類影響，十分適合真空鍍膜工藝。同時設備配有可燃氣體檢測裝置，聯(lián)動出氣口電磁閥，一旦出現(xiàn)泄漏電磁閥即可自行關閉保證**。
該套設備功能**占地面積較小，十分適合實驗室規(guī)模的CVD制備。

特點

1.高精度質量流量計以及薄膜真空規(guī)。

2.可燃氣體檢測裝置，聯(lián)動出氣口電磁閥。

3.體積小巧

4.專為石墨烯生產(chǎn)設計

技術參數(shù)：

1200℃迷你管式爐	供電電壓	AC220V,50Hz
	功率	2KW max
	加熱溫區(qū)	單溫區(qū)200mm
	恒溫區(qū)長	100mm
	加熱元件	耐熱合金絲
	熱電偶	K型
	工作溫度	≤1150℃
	升溫速率	建議≤10℃/min
	控溫精度	±1℃
	控溫方式	AI-PID 30段工藝曲線，帶有過熱和斷偶保護
	爐管材質	高純石英
	爐管尺寸	φ50mm O.D x 450mm L
	真空泵	機械泵  抽速1.1L/s
	極限真空	5Pa

三路浮子流量計	閥門類型	不銹鋼針閥
	氣路數(shù)量	三路
	承壓范圍	0.05~0.3MPa
	量程	Ar 0~500sccm H2 0~200sccm CH4 0~10sccm
	流量控制范圍	±1.5%
	混氣罐容積	750mL
	氣路材料	304不銹鋼
	管道接口	6.35mm卡套接頭
	供電電源	AC220V 50Hz