- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
晶圓級大尺寸二硫化鉬制備CVD設(shè)備（1150 三溫區(qū) 3路MFC）
本設(shè)備為基于CVD原理設(shè)計的晶圓級大尺寸二硫化鉬制備裝置。包括三溫區(qū)管式爐，特殊設(shè)計的爐管及配套氣路一組。該設(shè)備通過特殊設(shè)計的管路，能夠?qū)⒎磻?yīng)氣體均勻的釋放于爐管，確保后端晶圓上的產(chǎn)物的一致性和均勻性。是二硫化鉬制備實驗的不二之選。
特點
1.特殊管路設(shè)計，反應(yīng)氣體均勻的釋放
2.二硫化鉬制備不二之選
技術(shù)參數(shù)：
|
產(chǎn)品型號 |
CY-O1200-120III-IC-3Z-MoS2 |
|
爐管材質(zhì) |
高純石英 |
|
爐管規(guī)格 |
外部大石英管 φ120mm x1000mm 內(nèi)部小石英管 φ25mm x820mm x7根 |
|
溫區(qū)長度 |
三溫區(qū)200mm+200mm+200mm |
|
控溫精度 |
±1℃ |
|
溫度曲線 |
三溫區(qū)獨立控溫，每個溫區(qū)均可設(shè)置30段時間溫度曲線 |
|
工作溫度 |
0~1150℃ |
|
升溫速率 |
≤10℃/min |
|
進(jìn)氣系統(tǒng) |
三路質(zhì)量流量計Ar氣0~500sccm N2氣0~200sccm H2氣0~200sccm 配有七路分氣、混氣氣路及混氣灌。 |
|
爐管法蘭 |
不銹鋼水冷法蘭，配有KF16真空接口，機械式真空計及不銹鋼針閥 |
|
供電要求 |
AC 220V 50Hz 4kW |
|
控制方式 |
7英寸觸控屏 |
|
真空泵 |
雙極旋片真空泵 |
|
真空度 |
理論極限真空度10^-1Pa |
